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소문시 상유력 케이맥 개발, 국산 장비로 반도체 측정 최대 난제해결 기술개발 성공
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케이맥 개발, 국산 장비로 반도체 측정 최대 난제해결 기술개발 성공
*** 케이맥 (043290)
[아이뉴스24 최상국 기자] 한국표준과학연구원(KRISS)이 국내 중소기업이 개발한 장비를 활용해 반도체 공정에서의 난제로 꼽혀 온 산화막 두께 측정법을 개발하는 데 성공했다.
23일 KRISS 나노구조측정센터 김경중 책임연구원팀은 반도체 장비 개발업체인 케이맥이 개발한 중에너지이온산란분광기(MEIS)와 투과전자현미경(TEM)을 사용해 나노미터(nm)급 산화막의 절대 두께를 측정할 수 있는 상호보정법을 완성했다고 발표했다.
http://www.inews24.com/view/1231041
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