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일본수출규제, 일반 포토레지스트 노광장비 아닌 "EUV용 포토레지스트"

황금주신님 조회1890

2일 업계에 따르면 일본의 수출 규제에 포함된 제품은 일반 포토레지스트가 아니라 차세대 노광장비인 EUV용 포토레지스트다. 현재 D램(DRAM) 반도체 공정에 주로 사용하는 ‘ArF 레지스트’, 3D 낸드플래시 공정에 주로 사용하는 ‘KrF 레지스트’는 포함하지 않았다. 파운드리(반도체 위탁생산) 시장 1위 목표 달성을 위해 삼성전자에 필수적인 EUV용 제품을 ‘콕’ 집어 규제한 것이다.

[방금 속보]
日경제보복, 핵심은 EUV…삼성 차세대 반도체 공정 노림수 (1보)
에프에스티, 국내 유일 EUV 노광장비 펠리클 제조업체

*** 에프에스티 (036810)
에프에스티, 삼성 초격차 전략 EUV 7나노…국내 유일 펠리클 수혜

. 파운드리에서도 첨단 EUV(극자외선) 인프라를 구축해 파운드리 사업이 차세대 성장동력으로 삼을 계획이다. EUV 노광(露光)장비를 적용한 7나노 이하 공정 개발에 집중한다.

삼성전자는 EUV 노광을 위한 마스크 검사, 그리고 마스크 보호를 위한 펠리클(Pellicle) 핵심설계를 마무리한 것으로 알려졌다. 내년 초도 생산에 들어가는 7나노 시스템반도체 파운드리에 적용할 것으로 보인다. 시설투자를 대폭 늘려 반도체와 디스플레이 부문에서 2위와의 ‘초격차’를 유지하겠다는 삼성 특유의 경영전략으로 풀이된다.

EUV는 반도체 회로를 그리는 포토 리소그래피(노광)에 사용하는 ‘레이저’로 13.5nm의 짧은 파장을 가지고 있다. 현재 사용하는 방식보다 파장이 짧기 때문에 오밀조밀하게 회로를 그릴 수 있다. 마스크 보호를 위한 펠리클도 개발하고 있다.

EUV 노광 장비를 개발할 때 처음에는 펠리클에 대한 개념이 없었으나 마스크에서 계속 결함이 발생하다보니 필수적으로 도입이 이뤄졌다.

권휼 동부증권 연구원은 “에프에스티는 국내 유일의 펠리클 제조업체”라며 “국내 점유율과 고부가 제품 판매 확대로 인한 펠리클 매출 성장을 기대한다”고 설명했다

http://biz.chosun.com/site/data/html_dir/2019/07/02/2019070201345.html

https://www.edaily.co.kr/news/read?newsId=03204566616098496&mediaCodeNo=257
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